北京（路透社） – 中國商務部周日在一份聲明中表示，中國對荷蘭政府擴大對 ASML 晶片製造設備出口管制的決定「不滿意」。 荷蘭政府週五表示，將擴大對 ASML 1970i 和 1980i DUV（深紫外線）浸沒式微影工具的出口許可要求，使其規則與美國去年單方面對這些機器實施的出口限制保持一致。 北京多次批評華盛頓向荷蘭和日本等盟國施壓，要求它們加入針對中國取得尖端晶片和晶片製造設備的出口管制。 「近年來，美國為維護全球霸權，不斷…脅迫某些國家收緊半導體及（相關）設備出口管制措施…中方對此堅決反對，」中國商務部該部門週五回應荷蘭政府的聲明時表示。 商務部也表示，荷方不應濫用出口管制，避免採取損害中荷半導體合作的措施，維護「中荷企業共同利益」。 美國的遊說有效阻止了全球最大的晶片製造設備供應商阿斯麥公司向中國出口其最先進的光刻系統。 荷蘭貿易部長 Reinette Klever 週五表示，做出這項決定是「為了我們的安全」。 （愛德華多·巴普蒂斯塔報導；索納利·保羅編輯）…